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等離子清洗機(jī)可解決PECVD工藝石墨舟殘留的氮化硅

在光伏太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)制造中,石墨舟是十分重要的作用,其作為裝載工具,用于承載硅片并進(jìn)行PECVD工藝。PECVD全稱為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,是利用等離子體在較低溫度下進(jìn)行沉積的一種薄膜生長(zhǎng)技術(shù),而硅片表面正是需要進(jìn)行氮化硅鍍層,來(lái)提高太陽(yáng)能轉(zhuǎn)化率。在這個(gè)過(guò)程中,當(dāng)硅片進(jìn)行氮化硅鍍層時(shí),需要具有導(dǎo)電和導(dǎo)熱性較好的裝載工具,主要是因?yàn)榈璞∧け旧硎且环N絕緣體,具有較高的電阻率,所以裝載工具起著非常重要的作用,它不僅是硅片的支撐結(jié)構(gòu),還能提供良好的導(dǎo)熱和導(dǎo)電性能。但如果裝載工具的導(dǎo)電和導(dǎo)熱性能不佳,會(huì)導(dǎo)致氮化硅鍍層與裝載工具之間的接觸電阻增大,從而影響硅片的導(dǎo)電性能和熱傳導(dǎo)性能。因此,為了確保硅片氮化硅鍍層的穩(wěn)定性和質(zhì)量,需要選擇具有良好導(dǎo)電和導(dǎo)熱性能的裝載工具,而石墨舟對(duì)以上的條件完全符合。石墨舟具有以下優(yōu)點(diǎn):1.熱膨脹系數(shù)小,與硅片相近,所以加熱后溫度變化時(shí),石墨舟和硅片的熱膨脹差異小,避免因熱應(yīng)力導(dǎo)致硅片的損傷。2.化學(xué)穩(wěn)定性好,不易與鍍膜介質(zhì)發(fā)生反應(yīng),從而保證了鍍膜過(guò)程的穩(wěn)定性和硅片的表面質(zhì)量。3.導(dǎo)熱性好,有利于快速冷卻和加熱,可以更快地進(jìn)行鍍膜和冷卻,提高生產(chǎn)效率。4.結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高,不易變形或損壞,保證了硅片的穩(wěn)定性和精度。5.石墨舟的表面質(zhì)量好,平整、光滑、無(wú)孔洞等缺陷,從而可以保證硅片的表面質(zhì)量和精度。

但是,當(dāng)硅片表面進(jìn)行氮化硅鍍膜時(shí),石墨舟作為裝載工具不可避免的也會(huì)沉積上氮化硅薄膜,當(dāng)薄膜厚度累計(jì)到一定程度時(shí)將會(huì)影響到硅片的鍍膜效果。首先,氮化硅的殘留將會(huì)影響石墨舟的導(dǎo)電和導(dǎo)熱性,導(dǎo)電性能不佳,會(huì)導(dǎo)致硅片在鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)電位不均、電場(chǎng)分布不均勻等問(wèn)題,從而影響氮化硅鍍層的均勻性和質(zhì)量;導(dǎo)熱性能不佳,會(huì)導(dǎo)致硅片在鍍膜過(guò)程中的溫度控制不穩(wěn)定,從而影響氮化硅鍍層的結(jié)構(gòu)和性能。其次,隨著使用次數(shù)的增加,石墨舟表面沉積的氮化硅會(huì)越來(lái)越多,這會(huì)導(dǎo)致鍍膜時(shí)電場(chǎng)強(qiáng)度的變化,進(jìn)而影響鍍膜速度以及鍍膜厚度,從而導(dǎo)致色差片的產(chǎn)生。例如,當(dāng)石墨舟表面沉積的氮化硅較厚時(shí),鍍膜時(shí)電場(chǎng)強(qiáng)度高,鍍膜速度快,尤其硅片與石墨舟葉接觸處更易使硅片沉積較厚氮化硅,導(dǎo)致硅片鍍的膜較厚,硅片顏色偏白,因此不符合質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。

面對(duì)“如何清除石墨舟上殘留的氮化硅”這個(gè)問(wèn)題,整個(gè)行業(yè)實(shí)現(xiàn)了從濕法清洗到干法清洗的選擇的過(guò)程。濕法清洗成本高、效率低、還易損傷基材,更為關(guān)鍵的是,濕法清洗已經(jīng)不滿足現(xiàn)代工業(yè)的工藝要求,因此,更為安全環(huán)保的干法清洗技術(shù)成為多個(gè)行業(yè)領(lǐng)域的重要伙伴,等離子清洗技術(shù)就是一種既高效又環(huán)保的干法清洗方式。

PECVD是通過(guò)在兩個(gè)舟片之間產(chǎn)生輝光放電,分解腔室中的SiH4和NH3氣體,形成Si和N的離子,相結(jié)合形成SiNx分子,沉積在硅片表面,達(dá)到其鍍膜目的。而等離子清洗氮化硅,是通過(guò)等離子體中的活性物質(zhì)與氮化硅表面發(fā)生碰撞和化學(xué)反應(yīng),打斷氮化硅的化學(xué)鍵,使其分解成氣態(tài)的硅烷、氮?dú)獾任镔|(zhì)。同時(shí),等離子體中的高能電子也會(huì)對(duì)氮化硅進(jìn)行轟擊,進(jìn)一步促進(jìn)其分解。等離子清洗機(jī)對(duì)氮化硅的處理效果是十分顯著的,在未處理前,石墨舟表面的氮化硅殘質(zhì)顏色清晰,與石墨舟本質(zhì)具有明顯的差別,且氮化硅殘質(zhì)遍布舟片內(nèi)外;經(jīng)等離子體處理后,憑目視觀測(cè),石墨舟內(nèi)外表面已無(wú)明顯的氮化硅殘質(zhì),原先殘留的部分其顏色已恢復(fù)為本質(zhì)顏色。


(石墨舟處理前)


(石墨舟等離子處理后)

等離子清洗機(jī)對(duì)處理石墨舟氮化硅殘質(zhì)具有的優(yōu)勢(shì):1.充分清洗,等離子體不受材料的形狀和厚度的影響,能夠?qū)κ蹆?nèi)外進(jìn)行充分的清洗處理。2.不損傷基體性能,,只作用在材料表面。3.環(huán)保無(wú)污染,全程干燥的處理方式,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑、不產(chǎn)生污染。4.規(guī)格適用廣,可根據(jù)不用尺寸的石墨舟大小,定制設(shè)備容量。

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